Tetrafluorure de carbone de qualité électronique CF 4 99.999%

Tetrafluorure de carbone de qualité électronique CF 4 99.999% est le gaz de gravure du plasma le plus largement utilisé dans l'industrie des microélectroniques . Il est largement utilisé dans la gravure des matériaux de film mince tels que le silicium, le dioxyde de silicium, le silicium, le silicone en silicone et le tungsten {2} est également en phosphore dans le silicon Nettoyage de surface électronique de l'appareil, production de cellules solaires, technologie laser, réfrigération à basse température, isolation du gaz, agent de détection de fuite, contrôle de l'attitude de la fusée spatiale, détergent, lubrifiant et liquide de frein dans la production de circuit imprimé . en raison de sa stabilité chimique forte, de la tetraflude carbonée de qualité électronique peut également être utilisée dans des smel de plastique et en plastique et en plastique et en plastique Industries . La caractéristiques et la tendance du développement des gaz électroniques utilisés dans les circuits intégrés à l'échelle ultra-large actuel sont Présente, le tétrafluorure de carbone (CF4) a longtemps occupé le marché du gaz de gravure à son prix relativement bas, il a donc un large potentiel de développement .